Graphitization High Temperature Furnace For Various Carbon Materials 3000 °C
価格: 交渉可能
MOQ: 交渉可能
| 名前 | 産業炉 |
|---|---|
| 特徴 | 高温 |
| 容量 | 192-484L |
| 定格加熱電圧（V） | 3000℃ |
| 制限温度 | 2800°C |
High Efficiency Vacuum Induction Furnace / Carbon Heat Treatment Furnace
価格: 交渉可能
MOQ: 交渉可能
| 名前 | 真空の誘導加熱 |
|---|---|
| 寸法（l*w*h） | カスタムメイド |
| 構造 | 水平型 |
| 名前 | 垂直真空シンタリング炉 |
| 特徴 | 高効率 |
Energy Saving Graphitization High Temperature Furnace For Graphite Powder Purifying
価格: 交渉可能
MOQ: 交渉可能
| 名前 | 産業炉 |
|---|---|
| 最高温度 | 摂氏3000度 |
| 重さ | 2~20T |
| 応用 | グラファイト粉末精製 |
| 職場の雰囲気 | 真空、アルゴン、水素、窒素、不活性ガスなど。 |
Graphite Powder Vertical Vacuum Furnace / Heat Treatment Furnace 3000℃
価格: 交渉可能
MOQ: 交渉可能
| 名前 | 垂直真空炉 |
|---|---|
| 最高温度 | 摂氏3000度 |
| 重さ | 2~20T |
| 応用 | グラファイトの粉 |
| 職場の雰囲気 | 真空、アルゴン、水素、窒素、不活性ガスなど。 |
Custom Graphite Heating Element Furnace With Double Layer Alumina Brick
価格: 交渉可能
MOQ: 交渉可能
| 名前 | グラファイト加熱要素炉 |
|---|---|
| 最大動作温度 | 3000℃ |
| 共通の温度 | 2800°C |
| 温度の均一性 | ≤ ± 25 °C |
| 温度制御の精度 | ±1 °C |
Vacuum Induction Furnace / Vacuum Heat Treatment Furnace 3000 Degree Celsius
価格: 交渉可能
MOQ: 交渉可能
| 名前 | 真空熱処理炉 |
|---|---|
| 最高温度 | 摂氏3000度 |
| 重さ | 2~20T |
| 職場の雰囲気 | 真空、アルゴン、水素、窒素、不活性ガスなど。 |
| タイプ | 誘導炉 |
3000 Degree High Temperature Furnace Graphitization Dimension Customized
価格: 交渉可能
MOQ: 交渉可能
| 名前 | グラフィティ化炉 |
|---|---|
| 寸法（l*w*h） | カスタムメイド |
| 電圧 | 380V |
| 最高温度 | 摂氏3000度 |
| 重さ | 2~20T |
Horizontal Graphitization High Temperature Furnace For Carbon Materials Graphitization
価格: 交渉可能
MOQ: 交渉可能
| 名前 | 水平方向の高温グラフィット化炉 |
|---|---|
| 特徴 | 低エネルギー消費 |
| 容量 | 192-484L |
| 定格加熱電圧（V） | 3000℃ |
| 制限温度 | 2800°C |
Low Noise Vacuum High Temperature Furnace Easy Operating With Small Footprint
価格: 交渉可能
MOQ: 交渉可能
| 名前 | 高温真空の炉 |
|---|---|
| 最大動作温度 | 3000℃ |
| 温度制御 | プログラム制御と手動制御 |
| 温度の均一性 | ≤±10℃ |
| 温度測定精度 | 0.2~0.75% |
High Conductivity Film Lab Vacuum Furnace For PI Film Graphitization Production
価格: 交渉可能
MOQ: 交渉可能
| 名前 | グラフィティ化炉 |
|---|---|
| 最大動作温度 | 3000℃ |
| 共通の温度 | 2800°C |
| 温度の均一性 | ≤ ± 25 °C |
| 温度制御の精度 | ±1 °C |
